광간섭 리소그래피를 이용하여 3차원 다공성 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;
상기 3차원 다공성 포토레지스트 패턴의 기공 표면에 촉매를 코팅하는 단계;
상기 촉매가 코팅된 상기 3차원 다공성 포토레지스트 패턴의 기공 표면에 금속을 코팅하여 금속/포토레지스트
복합체를 형성하는 단계; 및
상기 금속/포토레지스트 복합체로부터 상기 포토레지스트를 제거하여 3차원 다공성 구조체를 형성하는 단계
를 포함하며,
상기 금속/포토레지스트 복합체는, 상기 촉매가 코팅된 상기 3차원 다공성 포토레지스트 패턴의 기공의 일부 또
는 전부를 채우도록 상기 금속을 코팅함으로써 형성되는 것인,
3차원 다공성 구조체의 제조 방법.​