기재 상에 제 1 고분자 콜로이드 입자를 함유하는 제 1 희생층을 형성하고;
상기 제 1 희생층 내로 제 1 전이금속 산화물 전구체를 주입하고;
상기 제 1 희생층을 제거함으로써 3차원으로 배열된 제 1 기공을 가지는 제 1 전이금속 산화물 구조체를 형성하고;
상기 제 1 전이금속 산화물 구조체의 제 1 기공 내로 상기 제 1 고분자 콜로이드 입자보다 작은 크기를 가지는
제 2 고분자 콜로이드 입자를 주입하여 제 2 희생층을 형성하고;
상기 제 2 희생층 내로 제 2 전이금속 산화물 전구체를 주입하고; 및,
상기 제 2 희생층을 제거함으로써 상기 제 1 기공 내에 형성되며, 상기 제 1 기공의 크기보다 작은 3차원으로
배열된 제 2 기공을 가지는 제 2 전이금속 산화물 구조체를 형성하는 것:
을 포함하는, 계층형 다공성 전이금속 산화물 구조체의 제조 방법.​